广州某半导体器件基带芯片创造厂，晶圆生产加工的过程 中产生含硅、氟的层次性工业废水处里技巧，来设计补救投资额1200吨/日。工业废水处里技巧部分有难度，有納米级硅颗粒物及氢氧化钠，以往补救技巧很难未达标。 废污水成分表及由来 具体造成的工业废气 ：溶液硅（100-500nm孔径）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 来历制作工艺 ：晶圆刻蚀化工废水处理（45%）、CMP化学反应机械机器增加光泽化工废水处理（40%）、机器冲干净水（15%） 补救制作工艺标准流程 创新枝术采用了"化学式发展+特总膜分开"枝术风格： 钙盐沉定 ：添加氯化钙我们要除氟铁离子（转化成CaF2沉淀自己） 斜板沉淀池不起作用 ：复合材料斜板沉淀池剂做到溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜虚报冒领微细颗粒物 反渗软件系统 ：脱盐率>98%，收回率75% 蒸发掉成果 ：浓水段实现了氟化物零废气排放 最中使用效果 氟化物浓度值：<8mg/L（少于中国特级准则10mg/L） 硅份量：<5mg/L 水环境资源工业废水处理率：70%广泛用于急冷塔保湿补水 垃圾回收利用：化掉杂质量较老式工艺设计减低60%