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半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例

内容游戏 背景 该芯片封装形式测试英文厂属于珠半圆的地区,关键生产方式BGA、QFP等模块化电路板芯片封装形式护肤品。跟随产能发展,改变废污水加工操作方法加工操作系統超容载运转,且没有办法有效性加工操作新加的含氰废污水加工操作方法。品牌的投资1200万元左右开始改装,设计加工操作业务能力800吨/日。 焦化废水部分及种类 含氰废水处理:真空镀膜步骤引起,氰化物氧浓度30-50mg/L; 高高锰酸盐指数污水:出于物理镀工艺设计,高锰酸盐指数渗透压300-500mg/L; 生产物生产废水:二极管封装相关材料进行维护清洁有,含环氧漆树脂材料等生产物物; 强酸强碱焦化废水:各生产工艺洗掉水混和而成。 治理 工艺设计标准流程 改建后的系统化用于"物理化学预清理+什么是生化清理+初中级钝化"工艺设计规划: 含氰污水清理: 酸碱性氯化法:分两极破氰,1阶段硫化ORP管理在300-350mV,下级硫化ORP>600mV; 一直在线检测网:实时更新管控余氯和氰化物浓度值。 高氯离子电镀废水整理: 吹脱塔预整理:pH调至11,气水比3000:1,挥发酚去掉率70%; 短程硝化反应细菌反硝化反应细菌:控制DO在0.5mg/L一下,增加碳源25%。 基础性工作体系: 淀粉水解碱化池:提升 化工废水可血生化性; 使用被氧化池:组合构成塑料填料,气水比15:1; 优质沉淀自己池:斜管规整填料,接触面工况1.0m³/(㎡·h)。 深度1外理单元尺寸: Fenton脱色:H2O2加药系统量200mg/L,Fe²⁺80mg/L; 生物学活性酶类炭滤池:进三步祛除COD和饱和度。 最终能够功效 提升后机系统开机工作比较稳定,冒水COD<40mg/L、氧化还原电位<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,数据来统计指标远远超过场所存在标准的。吨水办理成本费从仅有的11.两元削减为9.3元,年开机工作资金不仅节约约53万元。活性污泥存在量削减30%,垃圾救治资金相对下降。

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