半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
項目图片背景
该制造业企业专业化种植半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,废水治理方法氟溶液浓度很好且材料简化。原来的治理工学艺成果不安全稳定,氟化物直接排放不时过高。項目投入2五百万元投建专业书籍治理生活设施,设计制作治理效率500吨/天。
生产废水材料及渠道
焦化废水重点来自于生产方式环保设备清理和废水洗條:
氟亚铁离子密度:1500-3500mg/L
含硫酸钠根铝离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等材料原素
除理生产技术环节
而对高盐浓度显著特点,所采用"采和+多用结晶+膜处置"生产技术:
污废水 处理抽取池:的分类抽取不一样浓硫酸浓度污废水 处理
采和的反应池:分过程污泥脱水氢腐蚀钠和氢腐蚀钙,掌握结果pH至7.5-8.
二沉池想法池:加药PAC和PAM激发沉垫成效
斜管沉淀物池:便捷固液分離
多媒质吸附器:我们要除微小颗粒剂
反侵入设计:长度脱盐和除氟
厌氧颗粒飞灰精提脱水器等系统的:离心力脱水器等后厌氧颗粒飞灰建筑垃圾清运专注正确处理
同屏在线探测操作系统:雷达回波图监视氟阳离子有机废气浓度和pH值
终究目的
补救模式启动动态数据:
漏液氟铝离子均值含量:2800mg/L
满水后氟铝离子含量:3.2mg/L(一般)
氟剔除率:99.9%上面
水循环率:符合65%
程序全智能化阶段高,改变废气解决成本低降30%,年收废氟化钙副物品约400吨。